據(jù)蘇大維格官方透露，大型紫外3D直寫光刻設(shè)備iGrapher3000，在蘇大維格科技集團下線，并投入工業(yè)運行。iGrapher3000主要用于大基板上的微納結(jié)構(gòu)形貌的3D光刻，是新穎材料、先進光電子器件的設(shè)計、研發(fā)和制造的全新平臺。

圖片來源：蘇大維格

iGrapher3000此次安裝在維業(yè)達科技有限公司黃光車間，首個工業(yè)應(yīng)用項目是大尺寸透明導電膜的深槽結(jié)構(gòu)微電路模具，并將用于大面積平板成像、柔性導電器件和全息顯示與3D顯示研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。

蘇大維格主要從事微納關(guān)鍵技術(shù)、高端智能制造設(shè)備和功能材料的創(chuàng)新應(yīng)用，是首批認證的國家高新技術(shù)企業(yè)。其光刻儀器事業(yè)部研制了多種用于MEMS芯片的光刻設(shè)備MiScan200（8”~12”）、微納光學的MicroLab（4”~8”）和超表面、裸眼3D顯示、光電子器件研究的納米光刻設(shè)備NanoCrystal（8”~32”）。

2020年1月10日，在國家科技獎勵大會上，蘇大維格承擔的“面向柔性光電子的微納制造關(guān)鍵技術(shù)與應(yīng)用”成果，獲國家科技進步獎二等獎。

封面圖片來源：蘇大維格